Tanner MEMS


在當前MEMS設計領域,工具集成度比以往增加了很多。為了應對市場競爭,用戶需要一個已經成功證明能夠加速商業項目設計周期的工具集。Tanner MEMS流程不只把MEMS器件與相應模擬/數?;旌想娐吩O計的集成變得簡單,同時也能夠幫助用戶改善MEMS器件的設計。因此,它能夠減少培訓時間,縮短設計周期。

       Tanner MEMS設計流程的核心是L-Edit。L-Edit是一款MEMS版圖編輯工具,可以進行曲線多邊形和全角運算操作。相比于工程師使用的其他CAD工具,L-Edit的版圖規劃更加清晰。用戶可以快速的畫出所需的圖形,并方便地檢查多層版圖組合之間的重疊和相互關聯。利用L-Edit例如強大的曲線編輯、實時DRC檢查、布爾運算、對象捕捉與對準等方面的優勢,用戶可以更有效的完成設計任務,并節約時間與成本。與此同時,在任意形狀與曲率的多邊形復雜運算和派生層生成操作上,L-Edit的精度也可以做的非常高。這些操作包含AND,OR,XOR,Subtract,Grow和Shrink等。它們允許用戶根據簡單的形狀產生復雜的MEMS特殊結構。如下圖所示:

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Tanner MEMS的特點及優勢

- 同一環境下完整的IC和MEMS設計解決方案

- 25年的MEMS設計經驗

- 從版圖生成3D MEMS模型

- 支持導入和導出GDS、OASIS、DXF、Gerber 和 CIF 文件格式

- L-Edit提供可視化連接的節點高亮,可以快速查找和定位DRC和LVS問題

- 高度可編程的MEMS版圖設計工具,如曲線多邊形、多角操作等

- 參數化派生層產生工具,可實現特殊MEMS結構設計

- 完整可視化的多圖層幾何圖形設計- 利用工具欄便捷地生成、擺放和對準圖形,執行任意角度旋轉、翻轉、合并、咬和切片操作,指定一個參考點進行編輯操作,如對象旋轉、翻轉、移動,或使用基點位置進行實例放置等

- 針對MEMS工藝的DRC檢查

- 支持附帶邊界重構的DXF數據格式導入導出

- 支持Luceda Photonics公司的IPKISS.eda工具, 進行硅光器件設計

- Soft MEMS工具選項

> 高級3D分析工具:機械,熱,聲,電,靜電,磁性和流體分析

> 系統級仿真,包含IC和MEMS協同仿真

> 根據3D分析結果,自動生成MEMS器件行為模型


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